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文献
J-GLOBAL ID：200902151496739175
整理番号：02A0191162
CH4/H2/ArおよびO2の周期的注入による,InPの電子サイクロトロン共鳴反応性イオンビームエッチング
Electron Cyclotron Resonance-Reactive Ion Beam Etching of InP by Cyclic Injection of CH4/H2/Ar and O2.
SUZUKI T
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
HANEJI N
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
TADA K
(Yokohama National Univ., Yokohama, JPN)
,
SHIMOGAKI Y
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
NAKANO Y
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 41 号： 1 ページ： 15-19 発行年： 2002年01月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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