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文献
J-GLOBAL ID：200902151739497574
整理番号：97A0326020
二成分反応系列を使ったSi(100)上でのAl2O3薄膜の成長
Al3O3 thin film growth on Si(100) using binary reaction sequence chemistry.
OTT A W
(Univ. Colorado, CO, USA)
,
KLAUS J W
(Univ. Colorado, CO, USA)
,
JOHNSON J M
(Univ. Colorado, CO, USA)
,
GEORGE S M
(Univ. Colorado, CO, USA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 292 号： 1/2 ページ： 135-144 発行年： 1997年01月05日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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