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文献
J-GLOBAL ID：200902151847280093
整理番号：99A0276994
二光子励起によるレーザ誘起蛍光を用いた水素原子測定におけるSiH4プラズマ中のSH3ラジカルのレーザ誘起解離の影響
Effect of laser-induced dissociation of SiH3 radicals in SiH4 plasmas during atomic hydrogen measurements using laser-induced fluorescence by a two-photon excitation.
MIYAZAKI K
(Kurume National Coll. Technol., Fukuoka, JPN)
,
MISHIRO Y
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
KAJIWARA T
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
UCHINO K
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
MURAOKA K
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
OKADA T
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
MAEDA M
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 17 号： 1 ページ： 155-158 発行年： 1999年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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