文献
J-GLOBAL ID:200902151862086309
整理番号:00A0658553
伝導性液体及び空気の処理に用いる高速パルスパワー源
A Fast Pulsed Power Source Applied to Treatment of Conducting Liquids and Air.
著者 (7件):
VAN HEESCH E J M
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
PEMEN A J M
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
HUIJBRECHTS P A H J
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
VAN DER LAAN P C T
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
PTASINSKI K J
(Eindhoven Univ. Technol., Eindhoven, NLD)
,
ZANSTRA G J
(Convex BV, Dearsum, NLD)
,
DE JONG P
(NIZO Food Res., Ede, NLD)
資料名:
IEEE Transactions on Plasma Science
(IEEE Transactions on Plasma Science)
巻:
28
号:
1
ページ:
137-143
発行年:
2000年02月
JST資料番号:
D0036B
ISSN:
0093-3813
CODEN:
ITPSBD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)