文献
J-GLOBAL ID:200902151866337705
整理番号:94A0851319
二酸化チタン薄膜の原子層エピタクシー成長における表面粗さの低下
Surface roughness reduction in atomic layer epitaxy growth of titanium dioxide thin films.
著者 (6件):
RITALA M
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
,
LESKELAE M
(Univ. Helsinki, Helsinki, FIN)
,
NIINISTOE L
(Helsinki Univ. Technology, Espoo, FIN)
,
PROHASKA T
(Vienna Univ. Technology, Vienna, AUT)
,
FRIEDBACHER G
(Vienna Univ. Technology, Vienna, AUT)
,
GRASSERBAUER M
(Vienna Univ. Technology, Vienna, AUT)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
249
号:
2
ページ:
155-162
発行年:
1994年09月15日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)