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文献
J-GLOBAL ID：200902151927110784
整理番号：95A0253704
N2アニーリングによる液相堆積した酸化物(SiO2-xFxの結合構造の変化
Bond-structure changes of liquid phase deposited oxide (SiO2-xFx) on N2 annealing.
YEH C-F
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHEN C-L
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
LUR W
(United Microelectronics Corp., Hsinchu, TWN)
,
YEN P-W
(United Microelectronics Corp., Hsinchu, TWN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 66 号： 8 ページ： 938-940 発行年： 1995年02月20日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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