文献
J-GLOBAL ID:200902152196811466
整理番号:94A0495321
SIMOXにおけるFeゲッタリングのためのSiGe歪層
A SiGe Strain Layer for Gettering Fe in SIMOX.
著者 (5件):
CAMPISI G J
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
,
THOMPSON P
(Naval Research Lab., Washington, D.C.)
,
ANC M
(IBIS Technology, MA)
,
CORDTS B
(IBIS Technology, MA)
,
IOANNOU D E
(George Mason U., VA)
資料名:
Proceedings. 1993 IEEE International SOI Conference
(Proceedings. 1993 IEEE International SOI Conference)
ページ:
56-57
発行年:
1993年
JST資料番号:
K19940472
ISBN:
0-7803-1347-X
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)