文献
J-GLOBAL ID:200902152381333759
整理番号:99A0977095
低圧で低出力のSiH4rf放電におけるクラスタサイズ領域中での粒子の成長
Growth of particles in cluster-size range in low pressure and low power SiH4 rf discharges.
著者 (5件):
FUKUZAWA T
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
KUSHIMA S
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
MATSUOKA Y
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
SHIRATANI M
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
WATANABE Y
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
86
号:
7
ページ:
3543-3549
発行年:
1999年10月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)