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文献
J-GLOBAL ID：200902152845550189
整理番号：95A0756991
プラズマ堆積させた酸化窒化けい素薄膜の二軸弾性率,真性応力と組成の温度依存性
Temperature dependence of the biaxial modulus, intrinsic stress and composition of plasma deposited silicon oxynitride films.
HARDING D R
(NASA Lewis Res. Center, Ohio)
,
OGBUJI L U T
(NASA Lewis Res. Center, Ohio)
,
FREEMAN M J
(Rensellear Polytechnic Inst., New York)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 78 号： 3 ページ： 1673-1680 発行年： 1995年08月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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