文献
J-GLOBAL ID:200902153039594466
整理番号:93A0532055
RuO2薄膜抵抗器の安定性
Stability of RuO2 thin film resistors.
著者 (3件):
JIAO K L
(State Univ. New York at Buffalo, NY, USA)
,
JIA Q X
(State Univ. New York at Buffalo, NY, USA)
,
ANDERSON W A
(State Univ. New York at Buffalo, NY, USA)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
227
号:
1
ページ:
59-65
発行年:
1993年05月05日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)