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文献
J-GLOBAL ID：200902153103008770
整理番号：00A1007624
有機金属化学気相成長によるPt/(Ti,Al)N/YiN/Si基板上へのジルコニウムチタン酸鉛エピタキシャル膜の作製と評価
Preparation and Characterization of Epitaxial Lead Zirconate Titanate Films on Pt/(Ti, Al)N/TiN/Si Substrates by Metalorganic Chemical Vapor Deposition.
SAKURAI A
(Murata Manufacturing Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
LI X M
(Murata Manufacturing Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
SHIRATSUYU K
(Murata Manufacturing Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
TANAKA K
(Murata Manufacturing Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
SAKABE Y
(Murata Manufacturing Co., Ltd., Kyoto, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 39 号： 9B ページ： 5441-5445 発行年： 2000年09月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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