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文献
J-GLOBAL ID：200902153432649329
整理番号：99A0694440
固体炭素源を用いたDCマグネトロンスパッタリングによる炭化チタン膜の蒸着
Titanium carbide film deposition by DC magnetron reactive sputtering using a solid carbon source.
KUSANO E
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
SATOH A
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
KITAGAWA M
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
NANTO H
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
KINBARA A
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 343/344 ページ： 254-256 発行年： 1999年04月
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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