文献
J-GLOBAL ID:200902153486039810
整理番号:01A0052313
ULSIのメタライゼーションのためのZrN/Zr二層薄膜上の(111)Cu薄膜の単一配向成長
Single-Oriented Growth of (111) Cu Film on Thin ZrN/Zr Bilayered Film for ULSI Metallization.
著者 (4件):
YANAGISAWA H
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
SASAKI K
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
MIYAKE H
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
ABE Y
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
39
号:
10
ページ:
5987-5991
発行年:
2000年10月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)