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文献
J-GLOBAL ID：200902154114312443
整理番号：01A0350768
過冷却溶融シリコンのX線回折研究
X-ray diffraction study of undercooled molten silicon.
KIMURA H
(NEC Corp., Tsukuba, JPN)
,
WATANABE M
(NEC Corp., Tsukuba, JPN)
,
IZUMI K
(NEC Corp., Tsukuba, JPN)
,
HIBIYA T
(NEC Corp., Tsukuba, JPN)
,
HOLLAND-MORITZ D
(DLR, Koeln, DEU)
,
SCHENK T
(DLR, Koeln, DEU)
,
EGRY I
(DLR, Koeln, DEU)
,
FUNAKOSHI K
(Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., Sayo, JPN)
,
HANFLAND M
(European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 78 号： 5 ページ： 604-606 発行年： 2001年01月29日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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