文献
J-GLOBAL ID:200902154525412716
整理番号:97A0973981
走査反射電子顕微鏡による埋め込まれたSiO2/Si(111)界面での原子ステップ観察
Atomic-step observation at buried SiO2/Si(111) interfaces by scanning reflection electron microscopy.
著者 (3件):
WATANABE H
(Angstrom Technol. Partnership, Ibaraki, JPN)
,
FUJITA K
(Angstrom Technol. Partnership, Ibaraki, JPN)
,
ICHIKAWA M
(Angstrom Technol. Partnership, Ibaraki, JPN)
資料名:
Surface Science
(Surface Science)
巻:
385
号:
2/3
ページ:
L952-L957
発行年:
1997年08月10日
JST資料番号:
C0129B
ISSN:
0039-6028
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)