文献
J-GLOBAL ID:200902154885867935
整理番号:01A0758395
EUVリソグラフィーによる微細パターンの再現性
Fine Pattern Replication by EUV Lithography.
著者 (6件):
HAMAMOTO K
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
WATANABE T
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
TSUBAKINO H
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
KINOSHITA H
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
SHOKI T
(HOYA Corp., Tokyo, JPN)
,
HOSOYA M
(HOYA Corp., Tokyo, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
14
号:
4
ページ:
567-572
発行年:
2001年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)