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文献
J-GLOBAL ID：200902155130134527
整理番号：95A0976686
液相沈着SiO2-x膜に対する制御したふっ素濃度及び熱アニーリングの効果
Controlling Fluorine Concentration and Thermal Annealing Effect on Liquid-Phase Deposited SiO2-xFx Films.
YEH C-F
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHEN C-L
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名：
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻： 142 号： 10 ページ： 3579-3583 発行年： 1995年10月
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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