文献
J-GLOBAL ID:200902155155718604
整理番号:98A0108180
プラズマ支援分子線エピタクシーによるGa安定とN安定条件下におけるGaNのホモエピタキシャル成長
Homoepitaxial growth of GaN under Ga-stable and N-stable conditions by plasma-assisted molecular beam epitaxy.
著者 (6件):
TARSA E J
(Univ. California, California)
,
HEYING B
(Univ. California, California)
,
WU X H
(Univ. California, California)
,
FINI P
(Univ. California, California)
,
DENBAARS S P
(Univ. California, California)
,
SPECK J S
(Univ. California, California)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
82
号:
11
ページ:
5472-5479
発行年:
1997年12月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)