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文献
J-GLOBAL ID：200902155276827842
整理番号：96A0039009
RF SiH4プラズマ中の電子密度・温度に対する希釈ガスXe,Ar,He,H2の効果
The effect of dilution gas Xe,Ar,He and H2 on electron density and temperature in RF SiH4 plasma.
野村秀次
(名古屋大)
,
河野明広
(名古屋大)
,
後藤俊夫
(名古屋大)
資料名：
電気学会プラズマ研究会資料
(電気学会研究会資料)
巻： EP-95 号： 107-128 ページ： 41-49 発行年： 1995年11月27日
JST資料番号： Z0951A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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