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文献
J-GLOBAL ID：200902155720338080
整理番号：01A0156981
Mirau干渉顕微鏡を用いたアット波長極端紫外線リソグラフィーマスク検査
At-wavelength extreme ultraviolet lithography mask inspection using a Mirau interferometric microscope.
HAGA T
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
,
TAKENAKA H
(NTT Advanced Technol. Corp., Tokyo, JPN)
,
FUKUDA M
(NTT Telecommunications Energy Lab., Kanagawa, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 18 号： 6 ページ： 2916-2920 発行年： 2000年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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