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文献
J-GLOBAL ID：200902155742079711
整理番号：99A0991386
無酸素水を用いて原子レベルでSi(111)表面を平坦にする非常に簡単な方法
A Very Simple Method of Flattening Si(111) Surface at an Atomic Level Using Oxygen-Free Water.
FUKIDOME H
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MATSUMURA M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻： 38 号： 10A ページ： L1085-L1086 発行年： 1999年10月01日
JST資料番号： F0599B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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