文献
J-GLOBAL ID:200902155745495341
整理番号:93A0503822
0.1μmの間隔をもつ空気ブリッジ電界放出真空素子の作製
Air-bridge field-emission vacuum device fabrication with 0.1μm spacing.
著者 (5件):
CHEN C-Y
(Industrial Technology Research Inst. ERSO, Hsinchu, TWN)
,
KLEMER D P
(Univ. Texas at Arlington, Texas)
,
SHIEH T-J
(Univ. Texas at Arlington, Texas)
,
SHIEH J-L
(Univ. Texas at Arlington, Texas)
,
PUJARA M
(Univ. Texas at Arlington, Texas)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
11
号:
2
ページ:
497-500
発行年:
1993年03月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)