文献
J-GLOBAL ID:200902155791014854
整理番号:96A0169111
電子ビームリソグラフィーと,電子サイクロトロン共鳴プラズマ酸化を用いた像反転プロセスにより作製したSiナノ構造
Si nanostructures fabricated by electron beam lithography combined with image reversal process using electron cyclotron resonance plasma oxidation.
著者 (5件):
KURIHARA K
(NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN)
,
IWADATE K
(NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN)
,
NAMATSU H
(NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN)
,
NAGASE M
(NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN)
,
MURASE K
(NTT LSI Lab., Kanagawa, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
13
号:
6
ページ:
2170-2174
発行年:
1995年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)