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文献
J-GLOBAL ID：200902155996335343
整理番号：93A0496554
非晶質SiO2/Si上の金属性NiSi2の結晶性薄膜の形成
Formation of metallic, crystalline NiSi2 thin film on amorphous SiO2/Si.
LUO L
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
NASTASI M
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
MAGGIORE C J
(Los Alamos National Lab., New Mexico)
,
PINIZZOTTO R F
(Univ. North Texas, Texas)
,
YANG H
(Univ. North Texas, Texas)
,
NAMAVAR F
(Spire Corp., Massachusetts)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 73 号： 8 ページ： 4107-4109 発行年： 1993年04月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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