文献
J-GLOBAL ID:200902156119502529
整理番号:00A0710639
熱プラズマCVD法によるアルコキシド溶液からTiN膜とAlN膜の作製および特性評価
Preparation and properties of TiN and AlN films from alkoxide solution by thermal plasma CVD method.
著者 (5件):
SHIMADA S
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
YOSHIMATSU M
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
NAGAI H
(Hokkaido National Industrial Res. Inst., Sapporo, JPN)
,
SUZUKI M
(Hokkaido National Industrial Res. Inst., Sapporo, JPN)
,
KOMAKI H
(JEOL Ltd., Tokyo, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
370
号:
1/2
ページ:
137-145
発行年:
2000年07月17日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)