文献
J-GLOBAL ID:200902156510523522
整理番号:93A0359724
Chemical vapour deposition precursors for metal silicides.
著者 (3件):
MADAR R
(Ecole Nationale Superieure de Physique de Grenoble, Saint Martin d’H<span style=text-decoration:overline>e`</span>res, FRA)
,
THOMAS N
(Ecole Nationale Sup<span style=text-decoration:overline>e ́</span>rieure d’Electrochimie et d’Electrom<span style=text-decoration:overline>e ́</span>tallurgie de Grenoble, Saint Martin d’H<span style=text-decoration:overline>e`</span>res, FRA)
,
BERNARD C
(Ecole Nationale Sup<span style=text-decoration:overline>e ́</span>rieure d’Electrochimie et d’Electrom<span style=text-decoration:overline>e ́</span>tallurgie de Grenoble, Saint Martin d’H<span style=text-decoration:overline>e`</span>res, FRA)
資料名:
Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology
(Materials Science & Engineering. B. Solid-State Materials for Advanced Technology)
巻:
17
号:
1/3
ページ:
118-125
発行年:
1993年02月28日
JST資料番号:
T0553A
ISSN:
0921-5107
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)