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文献
J-GLOBAL ID：200902156736117276
整理番号：02A0616922
157nmリソグラフィー用の新しいフォトレジスト材料 II
A New Photoresist Material for 157 nm Lithography-2.
FUJIGAYA T
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
ANDO S
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
SHIBASAKI Y
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
KISHIMURA S
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
ENDO M
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
SASAGO M
(Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
UEDA M
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 15 号： 4 ページ： 643-654 発行年： 2002年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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