文献
J-GLOBAL ID:200902156737658610
整理番号:98A0954861
マルチカプス磁場を用いた方位対称表面波で励起した新しいマイクロ波プラズマ源
New-type microwave plasma source excited by azimuthally symmetric surface waves with magnetic multicusp fields.
著者 (2件):
TUDA M
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
,
ONO K
(Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
16
号:
5
ページ:
2832-2839
発行年:
1998年09月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)