前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：200902156981136928
整理番号：01A0283997
共スパッタリングにより作製したTiSi2薄膜中の欠陥および電子構造 I 透過型電子顕微鏡による欠陥の解析
Defect and electronic structures in TiSi2 thin films produced by co-sputtering. Part 1: Defect analysis by transmission electron microscopy.
INUI H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
HASHIMOTO T
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TANAKA K
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TANAKA I
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
MIZOGUCHI T
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
ADACHI H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
YAMAGUCHI M
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名：
Acta Materialia
(Acta Materialia)
巻： 49 号： 1 ページ： 83-92 発行年： 2001年01月08日
JST資料番号： A0316A ISSN： 1359-6454 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。