文献
J-GLOBAL ID:200902156982318825
整理番号:99A0991408
SiO2ガラス/Si融液/SiOガス平衡系中のSiOの蒸気圧
SiO Vapor Pressure in an SiO2 Glass/Si Melt/SiO Gas Equilibrium System.
著者 (3件):
HUANG X
(Shinshu Univ., Nagano, JPN)
,
TERASHIMA K
(Shonan Inst. Technol., Kanagawa, JPN)
,
HOSHIKAWA K
(Shinshu Univ., Nagano, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
38
号:
10B
ページ:
L1153-L1155
発行年:
1999年10月15日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)