文献
J-GLOBAL ID:200902157050288003
整理番号:01A0721430
微結晶シリコン膜の高速堆積用の内部スポークアンテナを利用した新しい高密度マイクロ波プラズマ
Novel High-Density Microwave Plasma Utilizing an Internal Spoke Antenna for Fast Deposition of Microcrystalline Silicon Films.
著者 (4件):
SHIRAI H
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
YOSHINO K
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
OHKAWARA G
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
UEYAMA H
(Nihon Koshuha Co., Ltd., Yokohama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 2. Letters)
巻:
40
号:
7A
ページ:
L701-L704
発行年:
2001年07月01日
JST資料番号:
F0599B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)