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文献
J-GLOBAL ID：200902157150989165
整理番号：95A0649364
Fabrication of submicron relief gratings in p-GaAs in the process of maskless holographic wet etching by laser-induced etch rate reduction method.
KHUDOBENKO A I
(Scientific Res. Centre for Technological Lasers Russian Sci. Acad., Moscow region, SUN)
,
PANCHENKO V YA
(Scientific Res. Centre for Technological Lasers Russian Sci. Acad., Moscow region, SUN)
,
SEMINOGOV V N
(Scientific Res. Centre for Technological Lasers Russian Sci. Acad., Moscow region, SUN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 2403 ページ： 409-413 発行年： 1995年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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