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文献
J-GLOBAL ID：200902157393770528
整理番号：93A0597503
半導体薄膜ドーピング用の自由蒸発と組合せた狭間隔気相輸送
Close-spaced vapor transport combined with free evaporation for doping of semiconductor thin films.
CASTRO-RODRIGUEZ R
(I.P.N.-M<span style=text-decoration:overline>e ́</span>rida a.p., M<span style=text-decoration:overline>e ́</span>xico)
,
PENA J L
(I.P.N.-M<span style=text-decoration:overline>e ́</span>rida a.p., M<span style=text-decoration:overline>e ́</span>xico)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 11 号： 3 ページ： 730-731 発行年： 1993年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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