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文献
J-GLOBAL ID：200902157441113429
整理番号：94A0585062
Xeスパッタ法による優れた結晶性をもつBaM膜の調製法と磁気的性質
Preparation and magnetic properties of BaM films with excellent crystallinity by Xe sputtering.
MATSUSHITA N
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
,
NOMA K
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
,
NAKAGAWA S
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
,
NAOE M
(Tokyo Inst. Technology, Tokyo, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 75 号： 10 Pt 2B ページ： 7131-7133 発行年： 1994年05月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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