文献
J-GLOBAL ID:200902157493933840
整理番号:00A0144880
高密度SiH4マイクロ波プラズマを用いる微結晶けい素の高速堆積
Fast Deposition of Microcrystalline Silicon Using High-Density SiH4 Microwave Plasma.
著者 (5件):
SHIRAI H
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
SAKUMA Y
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
MORIYA Y
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
FUKAI C
(Saitama Univ., Saitama, JPN)
,
UEYAMA H
(Nihon Koshuha Co., Ltd., Yokohama, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
38
号:
12A
ページ:
6629-6635
発行年:
1999年12月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)