文献
J-GLOBAL ID:200902157662998972
整理番号:03A0069849
電子ビーム描画格子を用いた多重ビーム干渉リソグラフィー
Multiple-beam interference lithography with electron beam written gratings.
著者 (5件):
SOLAK H H
(Paul Scherrer Inst., CHE)
,
DAVID C
(Paul Scherrer Inst., CHE)
,
GOBRECHT J
(Paul Scherrer Inst., CHE)
,
WANG L
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
,
CERRINA F
(Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
20
号:
6
ページ:
2844-2848
発行年:
2002年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)