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文献
J-GLOBAL ID：200902157664633122
整理番号：98A0437899
X線回折による多孔質シリコン多層膜の構造解析
Structural Analysis of Porous Silicon Multilayer using X-Ray Diffraction.
MAEHAMA T
(Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
,
AFUSO C
(Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
,
ITOH N
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37 号： 3A ページ： 998-1005 発行年： 1998年03月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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