文献
J-GLOBAL ID:200902157826120221
整理番号:94A0124157
Dissolution Rate Modeling of A Chemically Amplified Positive Resist.
著者 (4件):
OHFUJI T
(NEC Corp., Kanagawa, JPN)
,
TIMKO A G
(AT&T Bell Lab., NJ)
,
NALAMASU O
(AT&T Bell Lab., NJ)
,
STONE D R
(AT&T Bell Lab., NJ)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
1925
ページ:
213-226
発行年:
1993年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)