文献
J-GLOBAL ID:200902158169949241
整理番号:02A0941349
非晶質Si3N4/ナノ結晶TiNナノ構造多層の熱応力硬化
Thermal stress hardening of a-Si3N4/nc-TiN nanostructured multilayers.
著者 (6件):
XU J
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
YU L
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
AZUMA Y
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
FUJIMOTO T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
UMEHARA H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
KOJIMA I
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
81
号:
22
ページ:
4139-4141
発行年:
2002年11月25日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)