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文献
J-GLOBAL ID：200902158413523200
整理番号：96A0682808
ガスクラスタイオンビームによる原子(分子)レベルでの表面処理
Surface processing by gas cluster ion beams at the atomic (molecular) level.
YAMADA I
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
MATSUO J
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
INSEPOV Z
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TAKEUCHI D
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
AKIZUKI M
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TOYODA N
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 14 号： 3 Pt 1 ページ： 781-785 発行年： 1996年05月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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