文献
J-GLOBAL ID:200902158570976049
整理番号:99A0071465
チタン酸ストロンチウム基板上に化学気相堆積したアナターゼのエピタキシャル成長機構
Epitaxial Growth Mechanism of Chemical-Vapor-Deposited Anatase on Strontium Titanate Substrate.
著者 (4件):
OHSHIO S
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
,
SAITOH H
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
,
TANAKA N
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
,
SUNAYAMA H
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata)
資料名:
日本セラミックス協会学術論文誌
(Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻:
106
号:
11
ページ:
1051-1055
発行年:
1998年11月
JST資料番号:
F0382A
ISSN:
0914-5400
CODEN:
JCSJEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)