文献
J-GLOBAL ID:200902158611222585
整理番号:99A0667405
プラズマ支援エピタクシーによるZnO層の低温エピタキシャル成長
Low temperature epitaxial growth of ZnO layer by plasma-assisted epitaxy.
著者 (4件):
YAMAUCHI S
(Ibaraki Univ., Hitachi, JPN)
,
HANDA H
(Ibaraki Univ., Hitachi, JPN)
,
NAGAYAMA A
(Ibaraki Univ., Hitachi, JPN)
,
HARIU T
(Ibaraki Univ., Hitachi, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
345
号:
1
ページ:
12-17
発行年:
1999年05月07日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)