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文献
J-GLOBAL ID：200902158805072959
整理番号：99A0065182
CVD法によるTiC1-x膜の反応機構と成長速度
Kinetics and Reaction Mechanisms of TiC1-x Films by Thermal CVD.
穐吉哲平
(京大)
,
福中康博
(京大)
,
日下英史
(京大)
,
菊池潮美
(滋賀県大 工)
資料名：
電気化学秋季大会講演要旨集
(電気化学合同秋季大会講演要旨集)
巻： 1998 ページ： 253 発行年： 1998年10月
JST資料番号： X0038A 資料種別： 会議録 (C)
発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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