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文献
J-GLOBAL ID：200902158857024189
整理番号：96A0613996
193nmレジスト用の新規の重合体
A Novel Polymer for a 193-nm Resist.
NOZAKI K
(Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
WATANABE K
(Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
YANO E
(Fijitsu Lab. Ltd., Atsugi, JPN)
,
KOTACHI A
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
TAKECHI S
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
,
HANYU I
(Fujitsu Ltd., Kawasaki, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 9 号： 3 ページ： 509-522 発行年： 1996年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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