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文献
J-GLOBAL ID：200902159119384827
整理番号：98A0406277
n-(001)Si上の単一配向(002)Hf膜の作製条件の研究
A Study on the Preparation Conditions of Single Oriented (002) Hf Film on n-(001) Si.
SHINKAI S
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
YANAGISAWA H
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
SASAKI K
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
,
ABE Y
(Kitami Inst. Technol., Kitami, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 37 号： 2 ページ： 643-648 発行年： 1998年02月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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