文献
J-GLOBAL ID:200902159215787843
整理番号:01A0366097
プラズマ増強化学蒸着SiN薄膜,ならびに熱蒸着SiO2/プラズマ蒸着SiN薄膜スタックを用いたシリコン太陽電池に関する表面パッシベーション
Surface passivation of silicon solar cells using plasma-enhanced chemical-vapour-deposited SiN films and thin thermal SiO2/plasma SiN stacks.
著者 (3件):
SCHMIDT J
(Australian National Univ., ACT, AUS)
,
KERR M
(Australian National Univ., ACT, AUS)
,
CUEVAS A
(Australian National Univ., ACT, AUS)
資料名:
Semiconductor Science and Technology
(Semiconductor Science and Technology)
巻:
16
号:
3
ページ:
164-170
発行年:
2001年03月
JST資料番号:
E0503B
ISSN:
0268-1242
CODEN:
SSTEET
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)