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文献
J-GLOBAL ID：200902159303365975
整理番号：02A0147067
ホローカソードプラズマ源によるSiOx成膜
SiOx Thin Film Deposition by Hollow Cathode Plasma Source.
沖本忠雄
(神戸製鋼所)
,
熊切正
(神戸製鋼所)
,
玉垣浩
(神戸製鋼所)
資料名：
電気学会放電研究会資料
(電気学会研究会資料)
巻： ED-01 号： 263-278 ページ： 55-57 発行年： 2001年12月11日
JST資料番号： Z0911A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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