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文献
J-GLOBAL ID:200902159303365975   整理番号:02A0147067

ホローカソードプラズマ源によるSiOx成膜

SiOx Thin Film Deposition by Hollow Cathode Plasma Source.
著者 (3件):
沖本忠雄
(神戸製鋼所)
熊切正
(神戸製鋼所)
玉垣浩
(神戸製鋼所)

資料名:
電気学会放電研究会資料  (電気学会研究会資料)

巻: ED-01  号: 263-278  ページ: 55-57  発行年: 2001年12月11日 
JST資料番号: Z0911A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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