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文献
J-GLOBAL ID:200902159484004502   整理番号:02A0930203

ゾル・ゲルプロセスによる遷移金属イオンドーピングTiO2膜の調整とその光触媒性能

著者 (4件):
高畠進義
(石川工高専)
中村静夫
(石川県工試)
児島雅之
(金沢工大)
大橋憲太郎
(金沢工大)

資料名:
粉体粉末冶金協会講演概要集  (粉体粉末冶金協会大会講演概要集)

巻: 2002  号: 秋季  ページ: 214  発行年: 2002年11月12日 
JST資料番号: F0815B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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