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文献
J-GLOBAL ID：200902159538222845
整理番号：01A0758400
157nmリソグラフィーのための248nmレジスト用主鎖の利用
Rejuvenation of 248nm Resist Backbones for 157nm Lithography.
BAE Y C
(Cornell Univ., NY, USA)
,
DOUKI K
(Cornell Univ., NY, USA)
,
YU T
(Cornell Univ., NY, USA)
,
DAI J
(Cornell Univ., NY, USA)
,
SCHMALJOHANN D
(Cornell Univ., NY, USA)
,
CONLEY W
(International SEMATECH, TX, USA)
,
MILLER D
(International SEMATECH, TX, USA)
,
BALASUBRAMANIAN R
(Intel Corp., CA, USA)
,
OBER C K
(Cornell Univ., NY, USA)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 14 号： 4 ページ： 613-620 発行年： 2001年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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