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文献
J-GLOBAL ID：200902159559078566
整理番号：99A0413507
水素終端Si(001)表面上へのOHの化学吸着
Chemisorption of OH on the H-terminated Si(0 0 1) surface.
GOTO H
(Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
,
HIROSE K
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SAKAMOTO M
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
SUGIYAMA K
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
INAGAKI K
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
TSUCHIYA H
(Kyoto Inst. Technol., Kyoto, JPN)
,
KOBATA I
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
ONO T
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
MORI Y
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Computational Materials Science
(Computational Materials Science)
巻： 14 号： 1/4 ページ： 77-79 発行年： 1999年02月
JST資料番号： W0443A ISSN： 0927-0256 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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